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Intel配新工具刻录电路精度提高电脑硬件行业资讯资讯-【资讯】

发布时间:2021-07-21 16:33:43 阅读: 来源:分割器厂家

英特尔星期一宣布,他们已在俄勒冈州的一个研发机构中率先安装了第一台商用“超紫外线光蚀刻技术” (EUV lithography )设备。

所谓超紫外线光蚀刻技术工具主要能够在硅晶片上刻录电路,预计这种技术将在2009年左右大规模普及。

据悉,超紫外线光蚀刻工具相当昂贵与精密,有些设备的价格甚至超过了1500万美元。它的工作原理有些类似于幻灯机。一束光源,透过一组镜头以及一种名为“光掩膜”(photomask)的设备,将电路图像刻录在硅晶片上。然后,根据这些走向,金属原料再附着在电路上。虽然这些电路走向表面上由光来蚀刻完成,但实际上却是通过化学反应来完成最后的镀料工作,这和像片的底片制造原理差不多。

目前,芯片电路蚀刻工具使用的镜头和滤镜已经能够刻录纳米级的电路,但它的精确性不够好,而超紫外线光蚀刻工具由于用精密的镜头替代了普通的镜头,其刻录精度大大提高了。

另外,超紫外线光蚀刻工具还得依靠紫外线才能运转,它的波长小于13.5纳米,目前,英特尔的工厂内使用的光源波长为193纳米,这种光源最小只能刻录50纳米大小的电路。

英特尔科技与制造部门的研究主任Ken David表示:“首先,超紫外线光拓展了英特尔的蚀刻技术蓝图,它是莫尔定律能否继续起作用的关键因素。”

莫尔定律说,一定大小的硅片上的晶体管数量每隔两年便能够翻番,自从英特尔的创始人Gordon Moore 1985年提出这条定律以来,芯片制造业一直都在遵循这条定律向前发展。

2009年之前,普通的光蚀刻工具还会继续使用,而超紫外线光蚀刻工具要等到英特尔开始大规模生产32纳米级别芯片时才能够投入使用,目前,芯片的制造工艺一般是90纳米。

英特尔装备第一台商用超紫外线光蚀刻工具表明,这种先进技术正在应用于实践,英特尔还将花数年时间对这种技术进行改进,以适合于大规模的芯片生产。

为了开发超紫外线光蚀刻工具技术,英特尔已经耗费数年时间,同数家机构进行了合作,比如EUV LLC的半导体企业联盟(EUV LLC), Cymer等等,英特尔已经向Cymer公司投资2千万美元开发这种技术。

据悉,英特尔不会是唯一一家开始使用超紫外线光蚀刻工具技术的公司,AMD,IBM,Micron科技以及摩托罗拉也都已经和EUV LLC的半导体企业联盟建立了合作关系。

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